為尖端材料沉積賦能：北京同林M1000型高精度臭氧源

在原子層沉積（ALD）、脈沖激光沉積（PLD）等尖端材料制備工藝中，前驅(qū)體的精準投遞與穩(wěn)定反應是生成高質(zhì)量、高性能薄膜的關(guān)鍵。臭氧作為強氧化劑，其純度、濃度及流量的穩(wěn)定性直接決定了薄膜的結(jié)晶質(zhì)量、均勻性和性能。

北京同林M1000型高精度臭氧發(fā)生器，專為應對此類嚴苛實驗環(huán)境而生，致力于為您的材料科學研究提供純凈、穩(wěn)定、可精準調(diào)控的高品質(zhì)臭氧氣源。

為ALD/PLD實驗量身定制的核心特性

超高純度氣體輸出，保障薄膜本征特性

采用進口雙阻擋介質(zhì)石英放電管與優(yōu)化電暈技術(shù)，產(chǎn)生超高純度臭氧，無氮氧化物（NOx）及金屬離子雜質(zhì)。徹底避免雜質(zhì)摻入對薄膜（如高k介質(zhì)、透明導電氧化物）電學、光學性能的不利影響，確保實驗數(shù)據(jù)的真實性與重復性。

精密濃度與流量控制，實現(xiàn)工藝完美重復

獨特的十檔位線性濃度調(diào)節(jié)功能（1-110mg/L），可精準匹配不同前驅(qū)體的氧化反應動力學需求。無論是需要低濃度臭氧進行表面溫和氧化，還是高濃度臭氧實現(xiàn)快速體相反應，M1000都能提供穩(wěn)定、精確的氣源，是實現(xiàn)ALD自限制性反應和PLD均勻沉積的重要保障。

卓越的穩(wěn)定性與長壽命，支持不間斷工藝運行

模塊化抗臭氧氧化設(shè)計與高效風冷系統(tǒng)，確保設(shè)備可連續(xù)穩(wěn)定工作，完全滿足ALD設(shè)備長時間、多循環(huán)的工藝需求。輸出濃度無漂移，杜絕因源的不穩(wěn)定導致的膜厚波動與性能差異，極大提升科研效率。

雙氣源靈活適配，優(yōu)化科研成本與效果

支持氧氣與潔凈干燥空氣兩種氣源模式。使用氧氣時，可獲得高濃度臭氧，適用于對氧化效率要求極高的反應；使用空氣時，成本更低，足以滿足多數(shù)常規(guī)實驗需求。一機兩用，為您的科研預算提供靈活選擇。

核心參數(shù)一覽：精準量化您的需求

本產(chǎn)品已成為國內(nèi)眾多頂尖科研單位在材料科學研究中的首選臭氧源，成功應用于：

中國科學院各大研究所的ALD/PLD系統(tǒng)

清華大學、北京大學的前沿材料實驗室 

選擇M1000，選擇可靠與精準

在探索新材料前沿的道路上，不應因“源”的不穩(wěn)定而徒增變量。北京同林M1000型臭氧發(fā)生器以可靠的穩(wěn)定性、精準的可控性和極高的純凈度，為您掃除科研障礙，助力您更專注于工藝創(chuàng)新與發(fā)現(xiàn)，加速科研成果的產(chǎn)出。